2025年3月19日上午，冠石科技全资子公司——宁波冠石半导体有限公司在宁波市前湾新区举行了盛大的开业典礼以及新品发布和通线仪式。宁波市政府对该项目高度关注，宁波前湾新区管委会主任、党工委副书记王兆波与宁波市经济和信息化局局长王懿栋共同参与见证，宁波前湾新区管委会副主任、党工委委员蔡世杰、励映忠，浙江省半导体行业协会秘书长丁勇也隆重出席活动。

活动现场，宁波冠石半导体总经理王兴平发表致辞，并宣布宁波冠石55纳米光掩模版实现交付，及40纳米光掩模版生产线成功通线。前湾新区主任王兆波和冠石科技董事长张建巍共同为冠石新产品发布揭幕，标志着宁波冠石半导体的正式开业。“这不仅是冠石科技发展战略的重要一步，更是我国半导体产业迈向自主可控、科技创新的重要时刻”，张建巍表示。

宁波冠石半导体是一家专业从事半导体光掩模版制造的企业，主要从事45-28纳米半导体光掩模版的规模化生产。自2023年4月份开业筹备以来加速推进项目进展，同年10月项目正式开工建设；2024年1月厂房封顶，7月首台电子束掩模版光刻机顺利交付，该设备是光掩模版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备，10月试产、送样及认证；进入2025年，不到两年时间，实现了55纳米光掩模版的交付及40纳米光掩模版生产线成功通线，该产品将广泛应用于人工智能、高性能计算、新能源汽车、消费电子等集成电路制造领域，有望打破国内半导体光掩模版在55纳米及以上高端技术节点国外垄断的局面。

本次宁波冠石半导体光掩模版制造项目的新品发布暨通线，是冠石科技战略布局“一大一小一微”全面落实的历史性重要里程碑，更是冠石科技攻克高端光掩模版核心技术，切入半导体产业“卡脖子”环节，开启发展的新征程。

光掩模版作为半导体产业链上游重要的原材料之一，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形转移工具或母版，承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体，其功能类似于相机的“底片”。其在芯片设计与晶圆制造之间起到了至关重要的桥梁作用，其精度直接决定了芯片性能的优劣，对整个半导体产业链具有极其重要的战略意义。长期以来，我国高端光掩模产业化率极低，成为制约集成电路产业发展的关键瓶颈。宁波冠石半导体光掩模版制造项目的顺利量产，将进一步提高我国在半导体关键材料领域的自主可控，完善整个半导体供应链。